英文参考文献引用格式有两种：APA格式和MLA格式。1、APA格式：APA（American Psychological Association）是一种标明参考来源的格式，主要使用在社会科学领域及其他学术准则中，国内很多期刊也是采用的APA格式。APA文内注的参考文献格式是：“（作者姓氏，发表年份）”。APA文末的参考文献目录格式是：Reference List， 必须以姓（Family name）的字母顺序来排列，基本结构为：期刊类：【作者】【发表年份】【文章名】【期刊名】【卷号/期数：起止页码】Smith，J（2006）The title of the The title of Journal，1，101-105。非期刊类：【作者】【发表年份】【书籍名】【出版地：出版社】SG（2002）What computers can't New York:Harp&Row。2、MLA格式：MLA是美国现代语言协会（Modern Language Association）制定的论文指导格式，多用于人文学科（Liberal Arts）。MLA文内注的基本格式：“（作者姓氏，文献页码）”。MLA文末的参考文献目录格式：在MLA格式中称为Works Cited，同样是以姓（Family name）的字母顺序来排列，基本结构为：期刊类：【作者】【“文章名”】【期刊名】【卷号或期数】【发表年份】起止页码】Nwezeh，CE“The Comparative Approachto Modern African L”Year book of General and Comparative Literature 28(1979):22。非期刊类：【作者】【书籍名】【出版地：出版社】【发表年份】Winfield，Richard DLaw in Civil SMadison:U of Wisconsin P，1995。文献引用不符合要求具体表现是：1、所列文献范围过宽，凡所参阅过的均列出其中，如教材、内部刊物、获奖过但并未公开发表的成果报告等。2、所列文献过多，如有些医生认为文献越多越好，将参阅过的文章书籍后的参考文献也悉数收录，有些文献作者并没有亲自阅读，只是认为跟自己的文章搭点边，也凑数其后。3、所列文献过少，有些医生怕自己文章引述别人东西太多，被人认为抄袭，故意将一些重要参考文献略去。4、对文献的理解偏面，以为只有引用文献原文才需要列出。5、大而不当，将整期刊物甚至连续几期杂志或整张报纸作为参考文献。
Choi， D， Blomgren， G E， Kumta， P N Fast and Reversible Surface Redox Reaction in Nanocrystalline Vanadium Nitride Supercapacitors[J] Advanced Materials， 2010， 18(9):NA-NA这是一条英文参考文献条目，是期刊论文，使用的是中国国家标准格式（GB）著录的：作者题名[J]刊名，年，卷（期）：起止页码所以说最后一项“NA-NA”应该是起止页码项，NA是not available的缩写，也就是没有获得的意思。经使用数据库检索可知这一篇文献（网页链接）的页码是有的，见下图。依据GB 7714-2015《信息与文献 参考文献著录规则》，这篇参考文献的格式是：CHOI D， BLOMHREN G E， KUMTA P N Fast， Reversible Surface Redox Reaction in Nanocrystalline Vanadium Nitride Supercapacitors[J] Advanced Materials， 2010， 18(9):1178-
不管毕业论文，还是学术论文，有一项必不可少的就是要在文章的最后加上参考文献，为了不影响文章的整体效果，参考文文献的格式还是要注意下的，特别是英文的参考文献格式。下面就来简单的说一下吧。基本格式大概是：[序号] 作者姓名，文章名称，出版处，时间字体的话：新罗马，五号字体（具体以实际投稿处的要求为准）其中需要注意的一点就是引用文章的作者姓名的书写原则，一般采用“名在前，姓在后”，具体格式是“名字的首字母，姓”，例如：QPeter，剩下的作者可以是跟第一作者一样。可以看到很多文献中，第一和其他作者的姓名一样的书写格式。中文名称也是一样的，名字在前，姓在后，如薛青禾即QHXue如：[1] MKumar，TOkazaki，MHiramatsu，YAndo，Carbon 45（2007）[29] H Fakih，S Jacques，M-P Berthet， F Bosselet，O Dezellus，J-CVThe growth of Ti3SiC2 coatings onto SiC by reactive chemical vapor deposition using H 2 and TiCl 4[J] Surface & Coatings T[30] WZLu， DWZuo， MWang， FX Analysis of interlayer between WC–Co and CVD diamond Key Engineering Material， 2008，375-376:p92-
